比選廢止理由: | 用戶補(bǔ)充采購需求內(nèi)容 |
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采購項(xiàng)目名稱 | 原子層沉積系統(tǒng) | 采購項(xiàng)目編號(hào) | 清采比選*號(hào) |
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公告開始時(shí)間 | 2024-11-08 14:36:58 | 公告廢止時(shí)間 | 2024-11-08 14:36:58 |
采購單位 | 清華大學(xué) |
物資名稱 | 采購數(shù)量 | 計(jì)量單位 |
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原子層沉積系統(tǒng) | 1 | 臺(tái) |
單價(jià) | ¥ * |
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技術(shù)參數(shù)及配置要求 | 反應(yīng)腔可以涂覆面積不小于6英寸,厚度不小于6mm的樣品。 采用DualO氮?dú)獗Wo(hù)的雙 O-Ring 高溫密封系統(tǒng),隔絕其他氣體滲漏。 基底加熱溫度室溫到400℃可控,控制精度±1℃; 腔體烘烤溫度室溫到200℃可控,控制精度±1℃。 沉積模式包括以下2種工作模式:高速沉積的連續(xù)模式、沉積超高寬深比結(jié)構(gòu)的停流模式。 前驅(qū)體源 (略) :1路為常溫源,1路為加熱源。加熱源加熱溫度室溫到200℃可控,控制精度±1℃,并配備高溫手動(dòng)閥。前驅(qū)體源應(yīng)至 (略) 接口。 標(biāo)準(zhǔn)前驅(qū)體源瓶體積不小于50cc, (略) 氣源, (略) 為常溫源可接水/臭氧/氧氣/氨氣/H2S源等,用于制備氧化物、氮化物和硫化物。 (略) 加熱源可接相關(guān)前驅(qū)體源。 (略) 全部采用316L不銹鋼 (略) , (略) 加熱溫度室溫到150℃可控。 原子層沉 (略) 前驅(qū)體配置一個(gè)專用高速高溫原子層沉積閥;原子層沉積閥加熱溫度室溫到150℃可控。 范圍真空規(guī)測量范圍應(yīng)該覆蓋2x10-4到10+3torr。 (略) 加熱溫度室溫到150℃可控;配置截止閥一個(gè),加熱溫度室溫到150℃可控。 設(shè)備需要高濃度臭氧發(fā)生器, (略) ,裂解器附件,最高產(chǎn)量大于15g/h,功率0~300W可調(diào)。 控制硬件應(yīng)采用PLC控制系統(tǒng)。 控制軟件應(yīng)采用專用軟件全自動(dòng)控制加熱、流量等全部沉積過程,并可以實(shí)時(shí)監(jiān)控溫度、壓強(qiáng)等。 應(yīng)采用真空機(jī)械泵連 (略) 。 |
質(zhì)保期 | 36個(gè)月 |
清華大學(xué)
2024-11-08 14:36:58
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