申購(gòu)單號(hào):CB*
申購(gòu)主題:高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)
采購(gòu)單位:河海大學(xué)
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發(fā)票類(lèi)型:增值稅普通發(fā)票
幣種:人民幣
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備注說(shuō)明:定制磁控濺射,并與手套箱集成。1.1用于制備:Au、Ag、Pt、W、Mo、Ta、Ti、Al、Si、Cu、Fe、Ni、氧化鋁、氧化鈦、氧化鋯、ITO、AZO、氮化鉭、氮化鈦等。1.2多靶材傾斜共濺射的方式,可沉積混合物/化合物薄膜。1.3在濺射過(guò)程中加入氧、氮或其它活性氣體,可沉積形成靶材物質(zhì)與氣體分子的化合物薄膜。1.4設(shè)備簡(jiǎn)單易于控制、鍍膜面積大、薄膜附著力強(qiáng),尤其適合高熔點(diǎn)和低蒸汽壓的材料。1.5磁控濺射技術(shù)是工業(yè)鍍膜的主要技術(shù)之一,易于科研成果轉(zhuǎn)化,是新技術(shù)向工業(yè)領(lǐng)域推廣的最經(jīng)濟(jì)有效的方法之一。申購(gòu)明細(xì):
序號(hào) | 采購(gòu)內(nèi)容 | 數(shù)量 | 預(yù)算單價(jià) |
1 | 高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng) | 1.0 | 臺(tái) |
品牌 | 沈陽(yáng)科儀 | ||
型號(hào) | PVD500 | ||
規(guī)格參數(shù) | 1.片內(nèi)膜厚均勻性:≤±5%。2.極限真空度:≤8x10-6Pa(經(jīng)烘烤除氣后)。3.抽速:30分鐘可達(dá)到6.6x10-4 Pa。4。真空室尺寸:500×500×550,真空室需選用優(yōu)質(zhì)304不銹鋼材質(zhì),表面電 (略) 理。5.磁控靶:3套,規(guī)格2英寸,強(qiáng)磁靶1套,永磁靶2套。6.直流電源500W,數(shù)量2臺(tái)。7.射頻電源500W,數(shù)量1臺(tái)。8.偏壓電源-200V,數(shù)量1臺(tái)。9.基片臺(tái)尺寸:4英寸,樣品臺(tái)爐絲溫度: 800℃±1℃(無(wú)氧環(huán)境)基片自轉(zhuǎn)速度:5~20轉(zhuǎn)/分。10.質(zhì)量流量控制氣:3路(氬氣、氧氣、氮?dú)猓┝髁繙?zhǔn)確度±1.5%F.S11.泵抽系統(tǒng):脂潤(rùn)滑分子泵1臺(tái),抽速不小于1300L/S,旋片真空泵1臺(tái),抽速不小于13L/S。12.真空測(cè)量:復(fù)合真空計(jì)1臺(tái):1x105Pa-1x10-7Pa13.工藝薄膜規(guī)0.1Torr(精度0.5%)14.設(shè)備具有智能控制系統(tǒng),系統(tǒng)具有完備的自鎖、互鎖保護(hù)系統(tǒng),并對(duì)關(guān)鍵部件有完備的故障報(bào)警及報(bào)警動(dòng)作保護(hù)措施,確保設(shè)備使用安全。系統(tǒng)采用配方式自動(dòng)工藝流程,提供開(kāi)放式工藝編輯、存儲(chǔ)與調(diào)取執(zhí)行,可實(shí)現(xiàn)真空獲得、控制溫度、鍍膜工藝、真空釋放等工藝的自由組合,并一鍵式全自動(dòng)運(yùn)行。所提供軟件要有軟件著作權(quán)。 | ||
質(zhì)保及售后服務(wù) | 在*方現(xiàn)場(chǎng)驗(yàn)收后,一年內(nèi)免費(fèi)維修正常使用出現(xiàn)的故障,非正常的故障維修只核收工本費(fèi),終身維修只核收工本費(fèi) |
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